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SiCカンチレバーパドル
SiCカンチレバーパドル

SiCカンチレバーパドル


SemixlabのSiCカンチレバーパドルは、エピタキシー、酸化、CVDなどの高温半導体プロセスにおけるウェーハハンドリング用に設計された精密エンジニアリング部品です。高純度再結晶またはCVDシリコンカーバイド製のこれらのパドルは、優れた熱伝導性、低熱膨張、そして卓越した耐薬品性を備えています。軽量かつ高強度の設計により、急速な熱サイクルにおいても寸法安定性とウェーハ保護を確保します。世界の半導体リーダー企業から信頼を得ているSemixlabは、完全カスタマイズソリューション、迅速な納品、そして長い製品寿命を提供し、高度な半導体製造ニーズに応える理想的なパートナーです。

詳細説明

Ⅰ. 精密ウェーハハンドリング用高純度SiCカンチレバーパドル

SiCカンチレバーパドルは、半導体製造におけるエピタキシー、拡散、酸化の各工程でウェハを搬送する熱処理装置に不可欠な部品です。優れた熱特性と機械特性により、クリーンルームにおける高温・腐食環境に最適です。

Ⅱ. 製品概要と機能的利点

1. 高性能アプリケーション向けの優れた材料特性

SemixlabのSiCカンチレバーパドルは、高純度の再結晶シリコンカーバイド(R-SiC)またはCVD SiCコーティングから製造されており、優れた熱伝導率(最大120 W/m·K)、低い熱膨張率(約4.0 x 10⁻⁶/K)、そして優れた耐腐食性と耐熱衝撃性を備えています。これらの特性により、高温プロセスにおけるウェーハの安定した支持が確保され、ウェーハの変形や汚染のリスクを最小限に抑えます。

2. 優れた寸法安定性と平坦性

1400℃を超える高温下でも反りを最小限に抑えるカンチレバー設計により、エピタキシャル層の均一性に不可欠なウェーハの均一な配置と搬送が保証されます。SiCの軽量性と高剛性により、急速熱処理(RPT)時のシステムスループットと温度応答性が向上します。

3. クリーンルームグレードの表面純度

Semixlabパドルは、緻密で滑らかなSiC表面仕上げにより、パーティクル発生とガス放出を最小限に抑えます。これは、クラス1またはISO 14644-1クラス2の清浄度レベルが求められる環境において特に重要です。

4. エピタキシャル、拡散、CVD炉向けにカスタマイズ

当社のSiCカンチレバーパドルは、MOCVD、LPCVD、酸化炉プラットフォームで広く使用されており、ASM、TEL、Veecoなどの主要装置ブランドと互換性があります。最適な熱均一性と機械精度を実現するよう設計されており、歩留まりの向上とプロセス変動の低減に貢献します。

Ⅲ. Semixlabを選ぶ理由

当社は、以下を含むカスタマイズされたエンジニアリング サービスを提供しています。

● サイズ、構造、材質グレードに合わせた製品カスタマイズ

● 耐熱性と耐薬品性を考慮したコーティングの最適化

● 迅速な試作と小ロット生産能力

● 技術コンサルティングと設計検証

中国を代表するSiCカンチレバーパドル製品の製造・販売会社であるSemixlabは、お客様に合わせた技術と製品ソリューションの提供に尽力しています。既存の熱処理プロセスの最適化、高性能な交換部品の購入、あるいはカスタマイズされたSiCソリューションの共同開発など、Semixlabは技術サポートと納品サポートをご提供いたします。

用途

● MOCVDエピタキシーウェーハキャリア

● 酸化拡散炉パドルアーム

● LPCVD/CVDツールにおけるウェーハローディングシステム

● 化合物半導体成長用のカスタマイズされたサセプターサポートアーム

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