SiCセラミックス

SiCセラミックスは、半導体製造装置においてますます広く使用されるようになっています。これは主に、過酷な条件下でも優れた耐久性を発揮するためです。高温になったり、プロセスがより過酷になったりすると、石英やシリコンなどの材料は限界に達し始めますが、そこでSiCが活躍します。酸化や拡散といった炉内プロセスでは、ウェハボートやパドルなどのSiC製部品は長持ちする傾向があります。長時間の運転後でも形状を維持し、汚染物質の混入も少ないためです。特にメンテナンス頻度が高くなると、この理由から石英からSiCへの切り替えが頻繁に行われます。

エッチングにおいて、SiCはプラズマ耐性が高いという理由だけでよく選ばれます。シリコン部品と比較した寿命の差は多くの装置で顕著ですが、具体的なプロセスによっても異なります。また、ノードが縮小するにつれてより敏感になる粒子制御にも多少役立ちます。さらに、MOCVDやCVDではサセプターとしてSiCが使用されることもあります。これらの場合、重要なのは「強度」というよりも、温度特性を安定させることです。その他にも、チャンバーライナーやシャワーヘッドなどの部品、場合によってはハンドリング部品にも使用されています。