SiCセラミック膜

炭化ケイ素（SiC）セラミック膜は、高純度の炭化ケイ素粉末を高度な再結晶・焼結プロセスで製造する高度なろ過技術です。超高透過率、優れた耐薬品性、長寿命で知られ、20ナノメートルという高精度ろ過精度を実現できるため、半導体製造、浄水、工業用分離といった要求の厳しい用途に最適です。

炭化ケイ素セラミック膜は無機膜の一種であり、膜分離技術における固体膜材料に属します。炭化ケイ素セラミック膜は2000℃以上の温度で焼成され、粒子表面は滑らかで丸みを帯びています。支持層および各層には閉孔やチャネルはありません。通常、異なる孔径を持つXNUMX層（多孔質支持層、遷移層、分離層）で構成され、非対称に分布しています。

炭化ケイ素セラミック膜は、2000℃以上の温度で再結晶焼成することにより製造されます。粒子表面は滑らかで丸みを帯びており、チャネル間の連結性は良好で、閉鎖気孔やチャネルは存在しません。

クイック詳細：

1. その他の名称: SiC セラミック膜、SiC セラミック、炭化ケイ素セラミック膜、半導体製造用 SiC 限外濾過膜、多孔質フィルターカートリッジ。

2. 主な用途：Semixlabの炭化ケイ素（SiC）セラミックメンブレンは、高純度の炭化ケイ素粉末を高度な再結晶化・焼結プロセスで製造した最先端のろ過技術です。超高透過率、優れた耐薬品性、そして長寿命で知られ、20nmまでのろ過精度を実現。半導体製造、浄水、工業用分離といった要求の厳しい用途に最適です。

3. コア仕様パラメータ：

ろ過精度は20ナノメートルに達します。

耐腐食性、耐熱性、耐衝撃性に優れています。

超高フラックス - フラックスはセラミック膜の 3 ～ 6 倍、有機膜の 5 ～ 30 倍で、占有スペースが少なく、効率的に動作します。

より安全な素材 - 超高温焼結、単一組成、残留物なし、重金属なし、医療グレードの安全性。

優れたろ過効果：限外ろ過とナノろ過により、様々な浄水ニーズに対応します。ろ過精度は精密ろ過をカバーし、耐用年数も極めて長く、強酸、強アルカリ、高温環境下でも5年以上使用できます。通常の浄水であれば20年以上使用できます。

SiC管状膜モジュール

SiCフラットシートメンブレン

1. 半導体産業

ウェーハ洗浄: 超純水からナノ粒子と有機残留物を効率的に除去します。

CMP 廃水リサイクル: 化学機械研磨 (CMP) 廃液を浄化して再利用することで、水道コストを数百万ドル節約します。

太陽光発電廃棄物処理：太陽電池製造時のスライス廃水（PEG 溶液など）を回収します。

2. 水のろ過

飲料水の浄化: PFAS、バクテリア、マイクロプラスチックを 99.9% 以上除去します。

産業廃水: 高塩分、油分、スケールを含む廃水を処理します (例: 石炭化学工場、油田)。

海水淡水化前処理: 従来の多段ろ過をコンパクトでエネルギー効率の高いプロセスに置き換えます。

競争優位性：SiC vs. 代替品

SiC セラミック膜がろ過や半導体プロセスをどのように最適化できるかについて詳しくは、当社までお問い合わせください。