半導体石英ウエハ

Semixlab 半導体石英ウエハーは、要求の厳しい半導体処理環境向けに設計された、精密に研磨された超高純度の石英ガラス基板です。

熱酸化、CVD/LPCVD、PECVD、リソグラフィーシステムにおけるダミーウェーハ、キャリアウェーハ、光学基板、フォトマスクベースとして幅広く応用されています。

99.99% の高純度 SiO₂ から製造されたこの石英ウエハーは、優れた熱安定性、化学的不活性、および光学的透明性を備えており、高度な半導体製造ラインにおいて安定した汚染のない動作を保証します。

Ⅰ. 材料と表面特性

● 材質：合成または天然の溶融シリカ（SiO₂ ≥ 99.99%）。

● 直径オプション: 2 インチ、4 インチ、6 インチ、8 インチ、12 インチ (カスタム サイズも利用可能)。

● 表面仕上げ：両面研磨、平坦度≦5μm、表面粗さ≦0.5nm。

● 耐熱性: 1200℃まで連続運転しても安定します。

● 熱膨張係数：5.5×10⁻⁷/°C。

● 光透過率: 190 nm ～ 2,600 nm で 90% 以上。

各ウェハーは、半導体グレードの要件に完全に準拠していることを確認するために、厳格な表面検査、寸法検証、純度分析を受けます。

Ⅱ. 半導体プロセスにおける主要機能

1. CVDおよびLPCVDシステムのプロセスキャリア

石英ウエハは、SiO₂、Si₃N₄、およびポリシリコン薄膜の成膜中にガスフローと温度均一性を安定化するためのダミーウエハまたはスペーサーウエハとして使用されます。その寸法精度により、成膜サイクル全体を通して均一な膜成長とパーティクル発生の最小化が保証されます。

2. 酸化炉および拡散炉の用途

高温酸化およびドーパント拡散プロセスでは、石英ウェハーは熱シールドまたはプロセスモニターとして機能し、均一な温度分布を維持し、製造ウェハーの汚染を防ぎます。

3. 光学およびリソグラフィー用途

高い光透過率と屈折率均一性を備えた石英ウエハーは、フォトマスク製造、深紫外線露光用基板、光学キャリブレーションツールに最適です。i線、KrF、ArFリソグラフィーシステムにおいて、安定した光透過率を保証します。

4. プラズマおよびエッチング環境

ドライエッチングおよびプラズマCVDシステムでは、石英ウェーハはチャンバーシールドまたはプラズマウィンドウとして使用され、ハロゲンベースのガス（CF₄、SF₆、Cl₂）に対する優れた誘電強度と化学的耐久性を備えています。

5. 計測と機器の校正

石英ウェハは、膜厚、温度、平坦度の校正用基準ウェハとして使用されます。非常に滑らかで欠陥のない表面により、正確で再現性の高い測定結果が得られ、プロセス制御の安定性を確保します。

代表的なアプリケーション

● CVD、LPCVD、PECVDシステム用ダミーウェーハ

● 酸化炉および拡散炉におけるプロセスキャリアまたは熱シールド

● UV/DUVリソグラフィー用フォトマスク基板

● 機器校正および計測用の基準ウェハ

● プラズマチャンバーウィンドウとエッチングプロセスプロテクター

Semixlabの半導体用石英ウエハーは、最も要求の厳しい半導体プロセス向けに設計された高性能基板です。その熱安定性、光学精度、そして化学純度は、成膜、酸化、リソグラフィー、そして計測アプリケーションに不可欠な要素となっています。包括的なカスタマイズとエンジニアリングサポートにより、Semixlabはプロセスの一貫性、歩留まり信頼性、そして運用効率を最大限に高めるソリューションを提供します。中国におけるお客様の長期的なパートナーとなることを心より願っております。